(1)提高位錯在滑移界面運動的阻力，即添加滑移式變形組織的形變抗力。

(2)減緩位錯的擴散型運動過程，以按捺擴散型形變組織的進行。

(3)改善晶體結構狀況，以添加晶界強化效果;或是取消晶界，以消除晶界在高溫時的薄弱環節。